1) chemical polish etching
化学抛光刻蚀
2) optical chemical etching
光化学蚀刻
1.
This article studies the process used optical chemical etching and electrochemical polishing synthetically,discusses the influence of the factor in the process and the application range of this process.
研究了光化学蚀刻与电化学抛光相结合的加工工艺 ,讨论了加工过程中各种因素对加工的影响及加工工艺的适用场合。
3) chemical etch polishing
化学腐蚀抛光
4) Silicon photo-electrochemical etching
硅光电化学刻蚀
6) photochemical etching
光化蚀刻
1.
With the continuousgrowth of electronic technology, photochemical etching tech-nology has expanded into many new application fields and aproduction scale is formed.
介绍了光化蚀刻的由来和传统工艺流程中五种掩膜的制作方法及四种现代的光化蚀刻法流程及其应用范围。
补充资料：化学抛光
分子式：
分子量：
CAS号：
性质：不用外来电源，借化学作用将金属制件浸入酸性或碱性溶液中，进行表面处理，以提高其光洁度的过程。例如将铜或黄铜制件浸入铬酸、硫酸、硝酸溶液中，处理一定时间，即可溶去其表面的毛刺、氧化铜和氧化亚铜等，而提高其光洁度。
分子量：
CAS号：
性质：不用外来电源，借化学作用将金属制件浸入酸性或碱性溶液中，进行表面处理，以提高其光洁度的过程。例如将铜或黄铜制件浸入铬酸、硫酸、硝酸溶液中，处理一定时间，即可溶去其表面的毛刺、氧化铜和氧化亚铜等，而提高其光洁度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条