1) high speed jet-electrodepositon

高速喷射电沉积
2) jet electrodeposition

喷射电沉积
1.
Numerical simulation and experimental research on growth of dendritic crystals in jet electrodeposition
喷射电沉积枝晶生长数值模拟及实验研究
2.
Dendritic crystals were made by jet electrodeposition.

利用喷射电沉积工艺制备镍枝晶。
3.
A quasi-two-dimensional dendritic cluster was produced on graphite plate by jet electrodeposition using a self-designed apparatus with a parallel nickel plate as anode.
以环形金属镍为阳极,石墨芯为阴极,利用点电极电沉积法制备了具有明显分形结构的二维金属镍枝晶;再以平行板金属镍为阳极,石墨板为阴极,用自行设计的试验设备,通过喷射电沉积法制备了准二维金属镍枝晶簇。
3) jet electrodepositing

喷射电沉积
1.
To improve the properties of nanocrystalline nickel coating prepared by jet electrodepositing,laser remelting experiment was carried out and the effects of laser remelting on microsturcture and properties on coating were researched.
为了提高喷射电沉积纳米镍涂层的性能,采用激光重熔工艺对涂层进行处理,研究了激光重熔对涂层微观组织和性能的影响。
2.
The nanocrystalline nickel coatings were prepared by jet electrodepositing on the substrate of 0.
采用喷射电沉积法在45钢基体表面制备了纳米晶镍涂层,研究了激光重熔工艺对组织的影响。
4) jet-electrodeposition

喷射电沉积
1.
Study of pulse jet-electrodeposition of nickel;

脉冲喷射电沉积镍工艺的研究
2.
The flow field inside jet-electrodeposition nozzle is analyzed by using the software of ANSYS,and the analytic results are given out as visualized velocity field.
用ANSYS软件对喷射电沉积喷嘴流场进行分析。
3.
Change tendency of flow filed inside different nozzle cavities in jet-electrodeposition is analyzed and the distribution of pressure,velocity field inside cavities of plating solution is researched by the FEM analysis software-ANSYS.
利用有限元分析软件ANSYS,分析了喷射电沉积工艺中不同喷嘴型腔里的流场变化趋势,研究了电镀液在型腔内的压力和速度分布规律。
6) pulse jet electrodepositing

脉冲喷射电沉积
1.
Nanocrystalline nickel coatings were prepared by pulse jet electrodepositing on the substrate of 45 carbon steel.
采用脉冲喷射电沉积方法在45钢基体表面制备了纳米镍涂层,用扫描电镜和X射线衍射仪研究了平均电流密度对镍涂层表面形貌、微观组织结构及平均晶粒尺寸的影响,并进行了耐腐蚀性试验。
补充资料:电沉积层织构
分子式:
CAS号:
性质:电沉积层与基体的结晶取向关系。即在沉积层中相当数量的晶粒表现出来的某种共同取向特征,又称择优取向。在多晶沉积层中,每颗晶粒的空间方位可用它的晶轴与相对于宏观基体的参考坐标系坐标轴的夹角来表示。如果沉积层中各晶粒的三根晶轴相对于参考坐标系呈随机分布,这便是无序取向。如果各晶粒的三根晶轴中有一根与参考坐标系有固定的关系,则成为一维取向,即通常所指的织构。这根晶轴即称为择优取向轴。有时择优取向轴的数目不止一根,这就意味着沉积层中有些晶粒是按某种关系相对于基体取向的,而另一些晶粒是按另一种关系相对于基体取向的。改变镀液组成、电流密度、pH等都可能引起织构的变化。
CAS号:
性质:电沉积层与基体的结晶取向关系。即在沉积层中相当数量的晶粒表现出来的某种共同取向特征,又称择优取向。在多晶沉积层中,每颗晶粒的空间方位可用它的晶轴与相对于宏观基体的参考坐标系坐标轴的夹角来表示。如果沉积层中各晶粒的三根晶轴相对于参考坐标系呈随机分布,这便是无序取向。如果各晶粒的三根晶轴中有一根与参考坐标系有固定的关系,则成为一维取向,即通常所指的织构。这根晶轴即称为择优取向轴。有时择优取向轴的数目不止一根,这就意味着沉积层中有些晶粒是按某种关系相对于基体取向的,而另一些晶粒是按另一种关系相对于基体取向的。改变镀液组成、电流密度、pH等都可能引起织构的变化。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条