1) photochemical etching
光化蚀刻
1.
With the continuousgrowth of electronic technology, photochemical etching tech-nology has expanded into many new application fields and aproduction scale is formed.
介绍了光化蚀刻的由来和传统工艺流程中五种掩膜的制作方法及四种现代的光化蚀刻法流程及其应用范围。
2) optical chemical etching
光化学蚀刻
1.
This article studies the process used optical chemical etching and electrochemical polishing synthetically,discusses the influence of the factor in the process and the application range of this process.
研究了光化学蚀刻与电化学抛光相结合的加工工艺 ,讨论了加工过程中各种因素对加工的影响及加工工艺的适用场合。
3) chemical polish etching
化学抛光刻蚀
4) Silicon photo-electrochemical etching
硅光电化学刻蚀
6) potoeching
光刻，光蚀
补充资料：光蚀刻
光蚀刻
photoetching
简称光刻。利用照相手段制作抗蚀膜像，用来保护表面，在金属、塑料等上面，借助腐蚀剂进行腐蚀的方法。应用于制作印片或电器的线路板等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条