1) simultaneous determination of indium and tin

铟和锡
2) In-Sn

铟-锡
3) indium tin oxide

氧化铟锡
1.
Several preparation methods of nano indium tin oxide powders in recent years are introduced.
介绍了近年来纳米氧化铟锡(ITO)粉末几种常用的制备方法,着重讨论了共沉淀法,溶胶-凝胶法,水热法等工艺,并比较了几种制备方法的优缺点。
2.
5TiO3 thin films used as insulating layer in thin film electroluminescent devices were prepared on indium tin oxide-coated Corning 1737 glass by radio frequency magnetron sputtering, and the effect of volume ratio of O2 to Ar+O2 V(O2)/V(Ar+O2) on deposition rate, crystallinity as well as dielectric properties of the Ba0.
采用射频磁控溅射法在镀氧化铟锡的Corning1737玻璃基片上制备了用于无机电致发光显示器绝缘层的Ba0。
3.
Indium tin oxide (ITO) thin films have been prepared by a sol-gel process using inorganic metal salts as raw materials.
以无机盐为出发原料,采用溶胶 凝胶法制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜。
4) separation indium and tin

铟锡分离
5) ITO
[英]['i:,təʊ] [美]['i,to]

氧化铟锡
1.
Study on the wettability between ITO target and indium;

氧化铟锡靶与铟的润湿性研究
2.
Preparation of ITO nanoparticles and their composite films with infrared property

纳米氧化铟锡粉体的制备及其复合膜的红外性能研究
3.
ITO (In2O3: SnO2 or Tin oxide doped indium oxide) films with nicer conductance, high visible light transmittance and lager reflectance in infrared region have been increasingly used in a variety of applications, such as organic light emitting diodes (OLED), liquid crystals display (LCD), electroma.
ITO (Indium Tin Oxide,氧化铟锡)薄膜以其良好的电导率性能、在可见光范围内的高透射性能以及在红外区内的高反射性能,成为制作透明电极材料的新宠,被广泛地应用于制造液晶平板显示器(LCD)、等离子体显示器、电致发光显示器、太阳能电池、节能视窗、汽车防雾玻璃等,应用前景广阔。
6) Sn-In alloy

锡-铟合金
1.
Sn,In,and Sn-In alloy coatings were deposited on the surface of current collector copper electrode via electrochemical route.
在电池集流体铜表面电沉积锡,锡溶解后易使其析氢量增加,电沉积铟在碱性溶液中抑氢效果好,但成本高,目前对锡-铟合金共沉积的效果研究甚少。
补充资料:低品位锡精矿和锡中矿处理
低品位锡精矿和锡中矿处理
treatment of low-grade tin concentrate and tin middling
d IP}nwelx一j旧gkLJong he xlzhongkuong ehul}低品位锡精矿和锡中矿处理(treatmentofl()w一grade tln eoneentrate and tin middling) 使低品位锡精矿和锡中矿中的锡和一些有价金属生成硫化物或氯化物挥发与大量杂质分离而得以提取的冶金过程。低品位锡精矿一般含锡小于20%,锡中矿含锡为1%一1。环。处理这些选矿厂一产品对提高选冶综合回收率具有重要意义。处理的方法主要有烟化炉硫化挥发和回转窑氯化挥发两种。 1953年苏联波多尔斯克炼锡厂(l1()加Jll.cK丽‘以‘小川“‘I.I泊a以帕首先用烟化炉硫化挥发法处理含锡低的炉渣,1964年苏联梁赞有色金属冶炼厂(:ja、)八仔川川少l\1拼r》)推厂‘应用于处理含锡、铅、锌的低品位物料中国云南锡业公司第一冶炼厂于1975年用烟化炉硫化挥发法处理含锡3%一4环的锡中矿,以后逐渐为德国、玻利维亚和英国的炼锡厂广泛采用。现世界上共约有1()座烟化炉专门用于处理低品位锡精矿和锡中矿 氯化挥发法于1941年首先在泰国处理含锡3%一4%的物料,1949年由于设备严重腐蚀而停产中国云南锡业公司于1958年开始研究高温还原抓化法处理含锡1.5%一2.0%的复杂难选锡中矿,19鹅年建成厂日处理100t矿石的生产厂。 烟化炉硫化挥发这种方法是将低品位锡精矿或锡中矿和硫化剂置于烟化炉中,在高温下使其中的锡和有价金属转变成硫化物挥发出来,然后再从烟尘中加以回收。其原理与富锡渣硫化挥发法基本相同.硫化剂常用的是黄铁矿。 烟化炉的炉体为全水套结构,包括炉底及炉气出口烟道都是由水套构成。炉身水套里面焊有销钉,炉渣受水套冷凝的壳层附于水套内壁被销钉固定其厚度由几厘米到十几厘米,视各部位渣子的酸度、温度和运动剧烈程度而定。这层渣子可保护水箱的钢板,井使液体炉渣得到保温。 硫化挥发操作开始时,将含锡物料或预先熔化加入烟化炉,或经制粒后加入前一炉放渣后留存的液渣中,或经风口借压缩空气喷吹于液渣中,操作数据指标和技术经济指标列于表1。表1烟化炉硫化挥发处理低品位锡物料的操作数据和技术经济指标甘一续表1、汤淤一卜郊冲啊术}。,。,。,}。二}。二。。}}}经}}}1}}济}}}}}}指}H一目认十,/“!IU。‘“I{l‘…’礁黑二/为…诊.「狱训1拭…“沂 ①原文名为Capper Pass%26Son Ltd·;②原文名为Zinnh让tte Freiberg A.G.;③原文名为La Palea Tin volatilizatior、Plant。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条