1) a-SiNx:H
氢化非晶氮化硅
2) hydrogenated amorphous silicon
氢化非晶硅
1.
We report the fabrication and operation of an optically addressed spatial light modulator(OASLM), consisting of a hydrogenated amorphous silicon (α-Si: H) pin photodiode as a photosensor and a twist nematic liquid crystal(TNLC) as the modulating material.
报道了用氢化非晶硅（α－Ｓｉ：Ｈ）ｐｉｎ二极管作光敏层，扭曲向列型液晶（ＴＮＬＣ）作电光调制层的光寻址空间光调制器（ＯＡＳＬＭ）的设计、制作与性能测试。
2.
The general structure and operation of the hydrogenated amorphous silicon/ ferroelectric liquid crystal spatial light modulators(FLCSLMs) were described in detail.
描述了氢化非晶硅／铁电液晶空间光调制器的结构和工作原理，并从器件的电学模型出发，着重讨论了整体器件对光敏层的特性要求，对ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜ｐ－ｉ－ｎ光敏层的制作和光电特性进行了研
3.
The hydrogenated amorphous silicon thin film (a-Si∶H) is an important light-sensitive material.
氢化非晶硅薄膜(a-Si∶H)是目前重要的光敏材料,而薄膜中的H含量及组态对薄膜的稳定性有着极其重要的影响。
4) a-SiN x:H films
非晶氮化硅薄膜
5) a-Si:H thin film
氢化非晶硅薄膜
1.
Analysis of IR transmission spectra and hypothesis of bond-centered H diffusion in a-Si∶H thin films during light-induced thermal annealing;
氢化非晶硅薄膜的红外光谱分析和桥键氢扩散假设(英文)
6) boron-doped a-Si:H
掺硼非晶氢化硅
补充资料：氮化硅晶须补强氮化硅陶瓷复合材料
分子式：
CAS号：
性质：以氮化硅陶瓷为基体，以氮化硅晶须为增强体的复合材料。它具有高强度、高硬度、耐高温、抗蠕变、抗氧化、抗化学腐蚀、抗热冲击、耐磨等优良性能，是一种重要的高温结构陶瓷。使用温度可达1300℃，可用在陶瓷刀具、拔丝模、轴承、涡轮转子、耐热坩埚等方面。采用粉末冶金复合法制备。这一复合材料的界面难以控制，一般氮化硅晶须要通过涂层，才能保持在烧结过程中的稳定性。
CAS号：
性质：以氮化硅陶瓷为基体，以氮化硅晶须为增强体的复合材料。它具有高强度、高硬度、耐高温、抗蠕变、抗氧化、抗化学腐蚀、抗热冲击、耐磨等优良性能，是一种重要的高温结构陶瓷。使用温度可达1300℃，可用在陶瓷刀具、拔丝模、轴承、涡轮转子、耐热坩埚等方面。采用粉末冶金复合法制备。这一复合材料的界面难以控制，一般氮化硅晶须要通过涂层，才能保持在烧结过程中的稳定性。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条