1) RF ion beam source
射频离子束源
3) radio frequency linear ion beam source
条形射频离子源
4) Ion beam source
离子束源
5) Broad beam ion source
宽束离子源
6) ion-beam sputtering
离子束溅射
1.
Si/Ge multilayer films were prepared by ion-beam sputtering.
采用离子束溅射制备Si/Ge多层膜,通过X射线小角衍射计算其周期厚度及各子层的厚度,用Raman光谱对Si/Ge多层膜的微观结构及Si子层的结构进行表征。
2.
Si/Ge multilayer films have been prepared by ion-beam sputtering on glass substrates with different periods.
采用离子束溅射技术,在玻璃衬底上制备了不同周期数的Si/Ge多层膜样品。
3.
A series of AgNiMnGa nano-granular films with different combinations of component materials were fabricated by using ion-beam sputtering technique.
利用离子束溅射技术制备了AgNiMnGa颗粒膜的系列样品。
补充资料：束源
分子式：
CAS号：
性质：产生分子束的装置。可分为隙流束源和超声分子束源。隙流束源(effusive beam source)是采用加热的方法使分子(如钠)蒸发，从狭缝中射出，经一准直孔把发散的分子挡掉，可得一束较窄而直的分子束射向反应室。束源出口小孔的尺寸要小于束源内分子热运动的平均自由程，束源内分子速度是按玻尔兹曼分布，分子速度分布相对较宽，发散角大，因而束强较小。隙流束源又称热束源、扩散束源、炉束源等。超声分子束源(supersonic molecular beam)气体分子从喷嘴射出，经出口孔、准直器进入真空室。其特点是束源强度大，沿轴线方向流动使束的发散性得到抑制；由于向真空绝热膨胀，温度可降低到小于20K；速度分布窄。由于马赫数M(=束流速度/声速)可达几十(超音速)，故又称超声分子速。分子束的强度即束强(beam intensity)，是单位时间通过与入射束运动方向相垂直的单位面积的粒子数。束流(beam flux)是单位时间内射到检测器上的粒子数，也称通量。
CAS号：
性质：产生分子束的装置。可分为隙流束源和超声分子束源。隙流束源(effusive beam source)是采用加热的方法使分子(如钠)蒸发，从狭缝中射出，经一准直孔把发散的分子挡掉，可得一束较窄而直的分子束射向反应室。束源出口小孔的尺寸要小于束源内分子热运动的平均自由程，束源内分子速度是按玻尔兹曼分布，分子速度分布相对较宽，发散角大，因而束强较小。隙流束源又称热束源、扩散束源、炉束源等。超声分子束源(supersonic molecular beam)气体分子从喷嘴射出，经出口孔、准直器进入真空室。其特点是束源强度大，沿轴线方向流动使束的发散性得到抑制；由于向真空绝热膨胀，温度可降低到小于20K；速度分布窄。由于马赫数M(=束流速度/声速)可达几十(超音速)，故又称超声分子速。分子束的强度即束强(beam intensity)，是单位时间通过与入射束运动方向相垂直的单位面积的粒子数。束流(beam flux)是单位时间内射到检测器上的粒子数，也称通量。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条