1) Pulsed vacuum arc plasma deposition
脉冲真空弧源沉积
2) pulse vacuum arc deposition
脉冲真空电弧沉积(PVAD)
3) Pulse vacuum arc deposition (PVAD)
脉冲真空电弧沉积
4) impulse arc deposition
脉冲弧沉积
5) Vacuum arc deposition
真空弧沉积
6) FAD
[英][fæd] [美][fæd]
真空磁过滤弧源沉积
1.
The results of surface modification of materials prepared by Ion Beam Assisted Deposition (IBAD), Filtered Arc Deposition (FAD) and Silicon－ On－ Insulator (SOI) by ion implantation were reported.
着重介绍离子束辅助沉积薄膜合成、真空磁过滤弧源沉积薄膜生长，以及离子注入 SOI材料合成的方法及其物理过程 ,同时也对离子束合成薄膜在工业及国防上的应用进行了探讨。
补充资料：真空沉积
分子式：
CAS号：
性质：真空中，在工件表面上沉积金属薄覆层的过程。
CAS号：
性质：真空中，在工件表面上沉积金属薄覆层的过程。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条