1)  GaN-based
					 
	
					
				
				 
	
					
				GaN基
				1.
					Application of Wet Chemical Etching in GaN-based Materials;
					 
					
						
						 
					
						湿法化学腐蚀在GaN基材料中的应用
					2.
					GaN-based 512×1 Ultroviolet linear Focal Plane Arrays
					 
					
						
						 
					
						GaN基512×1元紫外长线列焦平面探测器组件
					
					2)  GaN/Si
					 
	
					
				
				 
	
					
				Si基GaN
				1.
					Fabrication of GaN/Si photoconductive detectors;
					 
					
						
						 
					
						采用MOCVD技术在Si(111)衬底上生长GaN薄膜,以此材料制备成光导型Si基GaN紫外探测器。
					
					4)  GaN-based material
					 
	
					
				
				 
	
					
				GaN基材料
				1.
					Uniformity test of the local optical thickness for GaN-based material;
					 
					
						
						 
					
						GaN基材料局域光学厚度均匀性的检测方法
					
					5)  Si basedn-GaN
					 
	
					
				
				 
	
					
				Si基n-GaN
			
					6)  GaN-based FET
					 
	
					
				
				 
	
					
				GaN基FET
	补充资料:gallium nitride GaN
		分子式:
CAS号:
性质:白色或微黄色粉末。具有很高的化学稳定性,不溶于水,不与水和浓无机酸反应,稍与稀酸作用,缓慢与碱液反应,空气中加热800℃开始氧化,生成氧化镓。1050℃开始分解。可由气态生长细晶。在1050~1200℃由氧化镓和氨反应或由氯镓酸铵分解制取。为半导体材料和荧光粉。
		
		CAS号:
性质:白色或微黄色粉末。具有很高的化学稳定性,不溶于水,不与水和浓无机酸反应,稍与稀酸作用,缓慢与碱液反应,空气中加热800℃开始氧化,生成氧化镓。1050℃开始分解。可由气态生长细晶。在1050~1200℃由氧化镓和氨反应或由氯镓酸铵分解制取。为半导体材料和荧光粉。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
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