1) reflective mask
反射掩模
1.
In this paper,extreme ultraviolet lithography technique is analyzed from the aspects of extreme ultraviolet light source,extreme ultraviolet optical system,reflective mask,resist,stepper,i.
本文从极端远紫外光源、极端远紫外光学系统、反射掩模、光刻胶、光刻机等方面对极端远紫外光刻技术进行了分析论述 ,并且对它的应用前景进行了简要分
2) unsharp masking
反锐化掩模
1.
An algorithm of radiological image information enhancement based on unsharp masking;
基于反锐化掩模的辐射图像信息增强算法
2.
The Enhancement of Eye Fundus Image Based on Rough Sets and Wavelet Unsharp Masking
基于粗糙集与小波反锐化掩模的眼底图像增强
3) X-ray mask
X射线掩模
1.
In this paper,the home-made x-ray mask fabri-cation process is introduced firstly,then a two layer resists method which is used to fabricate deep-submicron T-shaped gate and some initial research results are described,and the domestic deep-submicron lithography status is analyzed .
本文中我们首先对我们的x射线掩模制造工艺进行介绍,然后论述了一种用于制造深亚微米T形栅的两层胶工艺,介绍了所取得的一些研究结果,最后对国内的深亚微米光刻现状进行了简要分析。
4) emitter mask
发射极掩模
5) rigid transmission mask
硬透射掩模
6) quadratic unsharp masking(QUM)
二次反锐化掩模
1.
A quadratic unsharp masking(QUM) operator is presented,which extracts edge and detail information from an image with equal weights.
提出了一种二次反锐化掩模算子(QUM),用于从图像中提取等比重的边缘和细节信息。
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条