1) pulsed chemical vapor deposition (PCVD)
脉冲直流化学气相沉积(PCVD)
2) direct current plasma chemical vapour deposition (DCPCVD)
直流等离子体化学气相沉积(DC-PCVD)
3) pulsed-d.c. PCVD
脉冲直流PCVD
4) plasma CVD
等离子体化学气相沉积(PCVD)
5) Multi-layer Coatings
等离子体增强化学气相沉积(PCVD)
6) Pulse Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition
脉冲等离子增强化学气相沉积
补充资料：等离子化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条