1) arc plasma reactor

等离子弧气相反应炉
2) arc plasma vapor phase reaction

等离子气相反应
3) gaseous ionic reaction

气相离子反应
4) plasma arc furnace

等离子电弧炉
5) ion molecule reaction

气相分子离子反应
6) Gas-phase ion-molecular reaction

气相离子分子反应
补充资料:等离子化学气相沉积
分子式:
CAS号:
性质:PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。
CAS号:
性质:PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条