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1)  arc plasma reactor
等离子弧气相反应炉
2)  arc plasma vapor phase reaction
等离子气相反应
3)  gaseous ionic reaction
气相离子反应
4)  plasma arc furnace
等离子电弧炉
5)  ion molecule reaction
气相分子离子反应
6)  Gas-phase ion-molecular reaction
气相离子分子反应
补充资料:等离子化学气相沉积
分子式:
CAS号:

性质:PCVD  化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。

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