1) ambiplasma
[æmbi'plæzmə]
双级性双管离子体
2) ambiplasma
[æmbi'plæzmə]
[天]双极性双等离子体
4) Dual-frequency capacitively coupled plasma
双频容性耦合等离子体
1.
Dual-frequency capacitively coupled plasma (DF-CCP) is one of the crucial components for etching in microelectronic manufacturing, and has been widely used in the next generation etching applications due to its simple structure and ability to control the plasma density, the ion energy distributions(IEDs), and the ion angle distributions(IADs) separately.
双频容性耦合等离子体(dual-frequency capacitively coupled plasma DF-CCP)源是半导体工业中重要的刻蚀设备,由于其可以产生大面积均匀的等离子体,通过调节高、低频源的放电参数可以有效地控制等离子体密度与离子能量、角度分布,并且结构简单成本较低,符合工业生产上的要求,双频CCP源被广泛应用在新一代的半导体刻蚀机的生产上。
5) double plasma
双层等离子体
6) two-temperature plasma
双温度等离子体
1.
In this paper, a two-dimensional simulation is performed about the two-temperature plasma flow and heat transfer in a circular tube.
本文对圆形通道内双温度等离子体的传热与流动特性进行了二维数值模拟,研究中假定体系处于局域化学平衡态,但电子温度不等于重粒子温度,需分别用各自的守恒方程求解。
补充资料：等离子体双液体模型
等离子体双液体模型
two - liquid plasma model
。八取。e，，Mo八e二‘n”臼M“l 一种流体动力学模型，在其中等离子体被看作是由两种互相穿透运动的“液体”(电子和离子的液体)组成的.等离子体的电阻被认为是这些液体之间相互摩擦的结果. 按电子只受电子压p。作用而离子只受离子压几作用的假设，运动方程组有形式 业1竺址_一。丁E一李:v_、Hl!+ dt一(一“‘’尸一’少 VP。。__，、， 一-兰二生一Rn，(V一V、.门) 刀e 攀一{二告:一小 VP，n__，、， 一-二止生七一Rn_(V一V_)fZ) 儿，电子和离子之间的相互作用是通过摩擦力来考虑的，该力正比于速度差与运动减速粒子的浓度之乘积.量R称为相互摩擦系数或扩散阻力系数.考虑到等离子体的类中性条件(”。二Zn，=”)，等离子体双液体模型的运动方程化为形式 dV 11 二分=一含V尸+:子二[j xH]， d tP’J’Pe其中 儿MV.+”_mV_ V=.‘二二二~‘-‘--‘二里止二‘‘乙 Mn，+水n。是平均质量速度，p一p，+几是总压力，而j二e(Zn，V一n。V。)是离子流.如果m/M<
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参考词条