1) automask aligner
自动掩模对准器
2) mask aligner
掩模对准器
3) mask alignment
掩模对准<测>
4) submicron mask aligner
亚微米掩模对准器
5) buried metal self-align
掩埋金属自对准
1.
With the novel modulated doping QW base and buried metal self-align process, the base lateral resistance and contact resistance of ultra-thin-base small-size SiGe HBTs are decreased by 42% and 55% respectively, which provides an effective method of resolution on base serial resistance.
采用新型调制掺杂量子阱基区结构和掩埋金属自对准工艺方法,在器件的纵向结构和制备手段上同时进行改进,使超薄基区小尺寸SiGeHBT的基区横向电阻和接触电阻分别降低42%和55%以上,有效解决了基区串联电阻的问题。
6) Mask aligners
掩模对准系统
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条