1) photodevelopment
[,fəutəudi'veləpmənt]
光显影
2) lithography development
光刻显影
1.
Meanwhile,a model for lithography development based on the Dill algorithm,the Kim model and the ray algorithm is established.
为此提出基于层次结构的三维场景绘制点渲染算法,并引入网格插值法填补显影模拟中在光刻胶表面出现的空洞,用Dill算法、Kim模型和介质光线算法建立光刻显影模型。
4) Huanguang developer
华光显影液
5) Radiopaque polymer
X光显影聚合物
6) X-ray developing fiber
X光显影纤维
补充资料：负温度系数热敏电阻陶瓷(见热敏陶瓷)
负温度系数热敏电阻陶瓷(见热敏陶瓷)
thermo-sensitive ceramics with negative temperature coefficient
负温度系数热敏电阻陶瓷thermo一sensitiveeeramies with negative temperature eoeffieient在某一特定温度范围，电阻率随温度的升高而明显减小的热敏陶瓷。简称NTC陶瓷。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条