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1)  Integrated optical circuit (IOC)
累积光路
2)  path accumulating
路径累积
3)  integral luminous flux
累积光通
4)  accumulated light
累积光量
1.
In order to test the accumulated light in the wide range of time and illuminance of unstable light source,we presented the measuring principle of accumulated light.
介绍了测定不稳定光源在很宽的时间和照度范围的累积光量法的基本工作原
5)  photosynthetic accumulati
光合积累
6)  double-loop integration
双回路积累
1.
By comparison with no-integration and double-loop integration method 0 simulation results show that the performance of this method is dose to that of the double-loop integration method.
研究了多电平积累技术在不同Swerling模型下的性能及其实现方法,并且对比了不积累、双回路积累和多电平积累在不同Swerling模型下的性能。
补充资料:Pro/ENGINEER中复杂几何路径的数组阵列
 

1 引言



    Pro/ENGINEER是目前应用非常广泛的CAD/CAM软件,其功能非常强大。在Pro/ENGINEER中进行特征复制时, PATTERN(数组阵列)可以一次建立多个相同的特征,比COPY(复制)省时省力。



    在实际应用中,阵列的几何路径有规则的(如直线形、圆形等),也有不规则的(如平行四边形、椭圆形等)。对于规则路径,其生成较简单,如圆形路径,选取一周向驱动尺寸,输入阵列的增量与个数即可。下面以在基座上钻孔为例,介绍不规则几何路径的数组阵列。



2 设计实例



    首先,生成基座(如图1黑点表示孔的圆心位),其中心点位于Pro/ENGINEER中坐标系的原点,再钻出左上角的第一个孔(以基座的两条边为参考边,这两条边的交点为准原点)。然后进行数组阵列,产生其余的孔,依次选择“Pattern→General→Table”。





图1 黑点表示孔的圆心位



2.1 步骤一



    选择图1中的尺寸“40,55”作为“表格驱动阵列的驱动尺寸”,然后选“Done”。



2.2 步骤二



    选择“Add”,进行表的添加(输入一个表名如A),接着打开一个窗口,其中已有的文字均为注释语句,最后一行为:



    idx       d4(40.0)     d3(55.0)



    其中,idx表示这一列填的是序号,从1开始;d后的数字以实际操作中产生的为准,括号内数值为步骤1中所选驱动尺寸的值,可以看出该值的显示顺序与尺寸的选择顺序是对应的。



2.3 步骤三



进行表的录入,依次填入:
1 65   55
2 90 55
3 115 55
4 140 55
5 50 85
6 60 115
7  70 145
8 95 145
9 120 145 
10 145 145  
11 170 145
12 150 85
13 160 115



    其中1~4为上部右边的4个孔,5~7为左边3个孔,8~11为下部右边4个孔,12~13为右边剩余2个孔。



2.4 步骤四



    首先点击“File→Save”,并且进行保存。然后点击“File→Exit”,退出程序。之后执行“Done”即可进行阵列,如图2所示。


说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条