1) arcuate venation
弧曲脉序
2) pulsed arc
脉冲电弧
1.
Modeling of emission properties of pulsed arc source;
脉冲电弧源的发射特性建模
2.
Discusses theoretically and experimentaly the discharge mechanicsm and diverging feature of pulsed arc source,thus obtaining the main influencing factors on the films thickness.
从理论和实验出发,分析脉冲电弧源的放电机理,讨论了脉冲电弧源发散特性,得到影响膜厚空间分布的主要因素,建立膜厚空间分布和主要因素之间的数学模型,结果表明和实验数据吻合。
3.
Diamond like carbon(DLC) films have been grown on silicon substrates by pulsed arc deposition.
利用脉冲电弧离子镀技术在硅基片上沉积类金刚石薄膜 ,并用轮廓仪对薄膜的厚度进行测量 ,研究了不同参数对薄膜均匀性的影响 。
3) Pulsed Multi arc
脉冲多弧
4) Arc fluctuations
电弧脉动
6) pulasating arc
脉动弧
补充资料：2500kVA电弧炉熔炼钒铁作业(锦州铁合金厂)
2500kVA电弧炉熔炼钒铁作业(锦州铁合金厂)
2500kVA电弧炉熔炼钒铁作业(锦州铁合金厂)
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