1) β- Silicon Nitride Crystal
β相氮化硅晶体
3) a-SiNx:H
氢化非晶氮化硅
5) a-SiN x:H films
非晶氮化硅薄膜
6) crystalline silicon nitride film
结晶氮化硅膜
补充资料:氮化硅晶须
分子式:
CAS号:
性质:有直晶和弹簧形两类,前者平均直径0.7~1.9μm,长度1~2mm;后者直径0.5~1μm;螺旋直径约10~15μm,螺距3~5μm,圈数多为10~40匝。两者皆为白色茸毛毡状,熔点1900℃,密度3.18g/cm3。制法是以Si2C16,NH3和H2为原料气,在涂镍的石英基质上按气液固机理生长成α-Si3N4为主的直晶,若在涂铁的石墨基质上以CVD法在1200℃沉积,则形成螺旋形。用于金属基或陶瓷基复合材料增强剂等。
CAS号:
性质:有直晶和弹簧形两类,前者平均直径0.7~1.9μm,长度1~2mm;后者直径0.5~1μm;螺旋直径约10~15μm,螺距3~5μm,圈数多为10~40匝。两者皆为白色茸毛毡状,熔点1900℃,密度3.18g/cm3。制法是以Si2C16,NH3和H2为原料气,在涂镍的石英基质上按气液固机理生长成α-Si3N4为主的直晶,若在涂铁的石墨基质上以CVD法在1200℃沉积,则形成螺旋形。用于金属基或陶瓷基复合材料增强剂等。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条