1) silicon-nitrogen
硅-氮
3) silicon nitride
氮化硅
1.
Preparation of silicon nitride powder by a direct nitridation process based on fluidization technology;
基于流态化技术硅粉直接氮化制备氮化硅粉
2.
High-temperature fatigue behavior in pre-cracked silicon nitride composites doped with ytterbium oxide;
Yb_2O_3掺杂氮化硅复合材料的高温动态疲劳行为
4) Si3N4
氮化硅
1.
Machining Characters of HSWEDM Assisting Electrode Method Machining Insulated Ceramics Si3N4;
绝缘陶瓷氮化硅高速走丝线切割加工技术研究
2.
Experimental Research on ELID Precision Grinding of the Si3N4;
氮化硅材料的ELID精密磨削试验研究
3.
Si3N4 bonded SiC product was prepared by firing at 1?380?℃ for 5?h under nitrogen atmosphere with SiC,FeSi and Si powder as principal raw materials.
以碳化硅(SiC)、硅铁(FeSi)粉、硅(Si)粉为主要原料,在氮气气氛下1 380℃保温5 h制得氮化硅结合碳化硅制品,研究了硅铁粉加入量对试样常温力学性能的影响。
5) polysilazane
聚硅氮烷
1.
Technique of joining of C_f/SiC composite via preceramic silicone polysilazane and joining properties;
陶瓷先驱体聚硅氮烷连接C_f/SiC工艺及连接性能
2.
Preparation of SiO_2-containing coatings of polysilazane via UV-curing;
含SiO_2填料的聚硅氮烷光固化涂层的制备
3.
Study on crosslinking of polycarbosilane/polysilazane precursor system;
聚碳硅烷/聚硅氮烷先驱体体系的交联
6) SiON
[英]['saiən] [美]['saɪən]
氮氧化硅
1.
During SiON hard mask layer wet removing process after polysilicon etching,hot phosphoric acid(H3PO4) easily induces surface particle.
在集成电路制造工艺中,附着在Si片表面的杂质颗粒一直是影响晶圆良率的重大因素,其中在栅极多晶硅刻蚀后的氮氧化硅(SiON)掩膜层湿法去除工艺中,所使用的热磷酸(H3PO4)湿法刻蚀尤其容易产生杂质颗粒。
补充资料：氮化硅晶须补强氮化硅陶瓷复合材料
分子式：
CAS号：
性质：以氮化硅陶瓷为基体，以氮化硅晶须为增强体的复合材料。它具有高强度、高硬度、耐高温、抗蠕变、抗氧化、抗化学腐蚀、抗热冲击、耐磨等优良性能，是一种重要的高温结构陶瓷。使用温度可达1300℃，可用在陶瓷刀具、拔丝模、轴承、涡轮转子、耐热坩埚等方面。采用粉末冶金复合法制备。这一复合材料的界面难以控制，一般氮化硅晶须要通过涂层，才能保持在烧结过程中的稳定性。
CAS号：
性质：以氮化硅陶瓷为基体，以氮化硅晶须为增强体的复合材料。它具有高强度、高硬度、耐高温、抗蠕变、抗氧化、抗化学腐蚀、抗热冲击、耐磨等优良性能，是一种重要的高温结构陶瓷。使用温度可达1300℃，可用在陶瓷刀具、拔丝模、轴承、涡轮转子、耐热坩埚等方面。采用粉末冶金复合法制备。这一复合材料的界面难以控制，一般氮化硅晶须要通过涂层，才能保持在烧结过程中的稳定性。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条