1) Re- flection High Energy Electron Diffraction(RHEED) patterns
反射式高能电子衍射仪(RHEED)图谱
2) RHEED
反射高能电子衍射(RHEED)
3) RHEED
反射式高能电子衍射仪
1.
The use of reflection high-energy electron diffraction(RHEED) has been proven to be a powerful tool to understand growth mechanisms of GaSb by molecular beam epitaxy(MBE).
采用分子束外延技术,在GaAs衬底上生长GaSb薄膜时,利用反射式高能电子衍射仪(RHEED)对衬底表面清洁状况、外延层厚度等进行在线监控。
6) RHEED
反射式高能电子衍射
1.
The lattice strain in as-prepared BaTiO_3/SrTiO_3 superlattice was analyzed with reflective high energy electronic diffraction(RHEED),X-ray diffraction(XRD) and selective area electron diffraction(SAED).
综合利用反射式高能电子衍射系统(RHEED)、高分辨率X射线衍射(HRXRD)以及高分辨率透射电镜选区电子衍射(SAED)技术,研究超晶格薄膜的晶格应变现象和规律。
2.
The growth process was in situ monitored with reflective high energy electron diffraction(RHEED).
通过反射式高能电子衍射 (RHEED)对生长过程进行原位监测 ,发现对基片的预热处理明显有利于改善其晶面结构 ,当在其上同质外延Sr TiO3 薄膜时 ,容易实现单晶层状生长模式 ,并得到原子级平整度的铁电薄膜。
3.
SrTiO3/BaTiO3 multilayer films were grown on SrTiO3 (001) substrates by laser molecular beam epitaxy(L-MBE), the smooth of films surface was studied by the reflection high-energy electron diffraction (RHEED) and atomic force microscopy (AFM).
用激光分子束外延技术在SrTiO3(001)村底上外延生长SrTiO3/BaTiO3多层膜,通过反射式高能电子衍射(RHEED)原住实时监测并结合原子力显微镜(AFM),研究了不同基片温度下所生长薄膜的表面平整度,利用X射线衍射(XRD)对外延薄膜进行了结构分析,结果表明薄膜具有二维生长模式,在基片温度为380-470℃之间生长的薄膜具有原子级光滑,并且具有完全C轴取向。
补充资料：反射高能电子衍射
反射高能电子衍射是高能电子衍射的一种工作模式。它将能量为10～50keV的单能电子掠射 (1°～3°)到晶体表面，在向前散射方向收集电子束，或将衍射束显示于荧光屏（见图）。
一幅反射高能衍射图只能给出倒易空间（见倒易点阵）某个二维截面，从衍射点之间的距离可确定相应的晶面间距。旋转样品，可以在荧光屏上得到不同方位角的二维倒易截面，从而仍可获得表面结构的全部对称信息。
由于在晶体中电子散射截面远大于X 射线的散射截面，加之掠射角小，从而使反射高能衍射与低能电子衍射一样具有表面灵敏度（约10～40┱）,但它不仅限于作单晶表面结构分析，也可用于多晶、孪晶、无定形表面及微粒样品的表面结构分析。
反射高能电子衍射得到广泛运用是与分子束外延技术发展有关。它可用于原位观察外延膜生长情况，为改进生长条件提供依据。与低能电子的情况有所不同，高能电子束与晶体相互作用中非弹性散射较弱，其强度分析的理论还处于探索之中。
参考书目
Shozo Ino,Jαpanese Journal of Applied Physics,Vol.16,No.6,pp.891～908,1977.
一幅反射高能衍射图只能给出倒易空间（见倒易点阵）某个二维截面，从衍射点之间的距离可确定相应的晶面间距。旋转样品，可以在荧光屏上得到不同方位角的二维倒易截面，从而仍可获得表面结构的全部对称信息。
由于在晶体中电子散射截面远大于X 射线的散射截面，加之掠射角小，从而使反射高能衍射与低能电子衍射一样具有表面灵敏度（约10～40┱）,但它不仅限于作单晶表面结构分析，也可用于多晶、孪晶、无定形表面及微粒样品的表面结构分析。
反射高能电子衍射得到广泛运用是与分子束外延技术发展有关。它可用于原位观察外延膜生长情况，为改进生长条件提供依据。与低能电子的情况有所不同，高能电子束与晶体相互作用中非弹性散射较弱，其强度分析的理论还处于探索之中。
参考书目
Shozo Ino,Jαpanese Journal of Applied Physics,Vol.16,No.6,pp.891～908,1977.
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条