1.
mask programmable integration
掩模可编程序集成电路
2.
Hard surface photomask substrates
GB/T15871-1995硬面光掩模基板
3.
electron beam generated mask
电子束技术制造的掩模
4.
hard-surface in-contact mask
表面坚固内接触掩模
5.
electron beam mask generator
电子束掩模图象发生器
6.
mask program read-only memory
掩模程序只读存储器
7.
photoresist mask pattern
光致抗蚀剂掩模图形
8.
electron beam mask system
电子束掩模制造系统
9.
mask programmable memory
掩模可编程序存储器
10.
trench mask definition
槽腐蚀用掩模图象形成
11.
electron chrome mask
电子束光刻用铬掩模
12.
masking clean / etch statio
掩模板清洗[腐蚀]台
13.
fixed-mask type ROM
固定掩模型只读存储器
14.
computer aided mask preparation
计算机辅助掩模制备
15.
Chromium masks last1 o to100 times longer than the emulsion masks.
铬掩模的使用寿命比乳效掩模的长10~00倍.
16.
Chromium masks last 1o to 100 times longer than the emulsion masks.
铬掩模的使用寿命比乳效掩模的长10~100倍.
17.
Act of moving a mask or reticle to match up alignment marks.
对准,调整掩模和晶片之间的位置。
18.
Specification for round quartz photomask substrates
GB/T16523-1996圆形石英玻璃光掩模基板规范