1) conformable optical mask
符合光掩模
2) optical mask
光学掩模
1.
Design for optical mask of micro sun sensor;
微型太阳敏感器光学掩模的镀膜设计
4) photomask
['fəutəumɑ:sk]
光掩模
1.
Study of Competition Strategy for Toppan Photomask Company LTD, Shanghai;
上海凸版光掩模有限公司竞争战略研究
2.
Acted as the process base of wafer fab for the past several years while the use of CAR resist is rapidly increasing, the DNQ resist still works well in photomask fabrication due to the 4X or 5X image reduction transferred from photomask to wafer.
THMR-IP系列光刻胶是基于DNQ材料的一种i线光刻胶,被广泛用于i线光刻机的硅片产品及i线图形发生器的光掩模产品上。
5) Grating Masks
光栅掩模
1.
The Control Study of Profiles of Photoresist Grating Masks;
光刻胶光栅掩模槽形的控制研究
补充资料：符合
符合
放射性核素显(成)像术语。当两个或多个事件在某一时刻同时出现时，称为符合。由于表征每一事件的信号都有一定的时间，在此范围内出现的信号均被符合电路认定是同时的，这一时间限度即称为符合分辨时间(coincidence resolving time)。根据符合原理设计的符合电路可以用于某些放射性核素测量中，其优点是可以排除外界干扰，获得更可靠的结果。在正电子湮没显(成)像(如PET显(成)像)中，利用符合电路可以减少本底和其他干扰，使影像更清晰。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条